Kính hiển vi công nghiệp Nikon ECLIPSE L300N/300ND
Mã sản phẩm:
ECLIPSE L300N/L300ND
Nikon ECLIPSE L300N và L300ND là dòng kính hiển vi công nghiệp cao cấp của Nikon, được thiết kế chuyên biệt để kiểm tra chính xác các tấm wafer bán dẫn có kích thước lên đến 300mm, màn hình phẳng (FPD - Flat Panel Displays), mạch tích hợp (IC - Integrated Circuits), thiết bị điện tử tích hợp quy mô lớn (LSI - Large Scale Integration) và các linh kiện điện tử khác. Đây là những công cụ không thể thiếu trong ngành công nghiệp bán dẫn, điện tử và các lĩnh vực sản xuất đòi hỏi độ chính xác quang học cực cao.
Sự khác biệt chính giữa L300N và L300ND nằm ở khả năng chiếu sáng:
ECLIPSE L300N: Chủ yếu tập trung vào chiếu sáng episcopic (ánh sáng phản xạ), lý tưởng để kiểm tra bề mặt không trong suốt.
ECLIPSE L300ND: Hỗ trợ cả chiếu sáng episcopic và diascopic (ánh sáng truyền qua), mở rộng khả năng quan sát cho các mẫu trong suốt hoặc bán trong suốt như màn hình phẳng, khẩu độ, hoặc kiểm tra xuyên hồng ngoại (transmitted IR inspection).
Dòng kính hiển vi ECLIPSE L300N/L300ND được xây dựng dựa trên hệ thống quang học CFI60-2 danh tiếng của Nikon, mang lại hiệu suất quang học vượt trội, hình ảnh rõ nét và độ phân giải cao. Chúng tích hợp nhiều tính năng tiên tiến để đáp ứng yêu cầu khắt khe của việc kiểm tra trong ngành công nghiệp bán dẫn.
Các đặc điểm nổi bật của Nikon ECLIPSE L300N/L300ND:
Quang học CFI60-2: Đảm bảo hiệu suất quang học hàng đầu thế giới, cung cấp hình ảnh chất lượng cao với độ tương phản tuyệt vời và độ phân giải sắc nét trên toàn trường nhìn.
Khả năng kiểm tra tấm wafer 300mm: Kính hiển vi được thiết kế với bàn di chuyển (stage) lớn, có khả năng chứa và di chuyển chính xác các tấm wafer 300mm, đáp ứng tiêu chuẩn của ngành bán dẫn hiện đại.
Đa dạng phương pháp quan sát: Hỗ trợ nhiều kỹ thuật chiếu sáng để hiển thị các chi tiết khác nhau của mẫu:
Trường sáng (Brightfield): Quan sát tiêu chuẩn, hiển thị các đặc điểm bề mặt rõ ràng.
Trường tối (Darkfield): Phát hiện các khuyết tật nhỏ, vết xước, hoặc hạt trên bề mặt mà khó thấy trong trường sáng.
Phân cực đơn giản (Simple Polarizing): Dùng để phân biệt các vật liệu có tính chất lưỡng chiết (birefringent).
Tương phản giao thoa vi sai (DIC - Differential Interference Contrast): Biến đổi sự khác biệt rất nhỏ về độ cao hoặc mật độ trên bề mặt mẫu thành sự khác biệt về độ sáng, làm nổi bật cấu trúc bề mặt.
Huỳnh quang phản xạ (Epi-fluorescence): Đặc biệt mạnh mẽ trên L300N/L300ND, với khả năng kích thích UV 365nm, tối ưu cho việc kiểm tra cặn dư chất cản quang bán dẫn (resist residues) trên wafer 300mm và màn hình OLED (organic electroluminescence displays).
Chiếu sáng xuyên (Diascopic illumination - chỉ L300ND): Bốn lần sáng hơn so với hệ thống chiếu sáng diascopic thông thường, lý tưởng cho các mẫu trong suốt.
Tính năng tự động hóa và điều khiển bằng động cơ:
Mâm vật kính xoay bằng động cơ (Motorized Universal Nosepiece): Giúp thay đổi vật kính nhanh chóng và chính xác.
Điều khiển cường độ sáng và khẩu độ bằng động cơ: Đảm bảo điều kiện chiếu sáng tối ưu và đồng nhất.
Thiết kế công thái học: Kính hiển vi được thiết kế để giảm thiểu sự mệt mỏi cho người vận hành, với ống ngắm có thể điều chỉnh góc nghiêng (0-30°) và vị trí các nút điều khiển được tối ưu.
Chống tĩnh điện: Lớp phủ chống tĩnh điện được áp dụng trên thân máy, bàn di chuyển, ống ngắm và các phụ kiện khác, giúp ngăn ngừa nhiễm bẩn và hư hỏng mẫu do tĩnh điện, góp phần tăng năng suất.
Tương thích phần mềm NIS-Elements: Tích hợp liền mạch với phần mềm hình ảnh NIS-Elements của Nikon để kiểm soát kính hiển vi, chụp ảnh kỹ thuật số, xử lý và phân tích hình ảnh chuyên sâu (ví dụ: ghép ảnh lớn, mở rộng độ sâu trường ảnh, đo lường tự động).
Ứng Dụng ECLIPSE L300N / L300ND
Nikon ECLIPSE L300N và L300ND là những công cụ không thể thiếu trong các môi trường sản xuất và nghiên cứu tiên tiến, đặc biệt là trong các ngành công nghiệp sau:
Sản xuất Bán dẫn (Semiconductor Manufacturing):
Kiểm tra tấm wafer: Soi kiểm bề mặt wafer 300mm để tìm kiếm khuyết tật, cặn bẩn, vết trầy xước, lỗi mẫu (pattern defects) sau mỗi bước sản xuất.
Phân tích lỗi IC/LSI: Kiểm tra các lỗi vi mô trong mạch tích hợp và các thiết bị LSI.
Kiểm tra cặn dư chất cản quang (resist residues): Sử dụng chức năng huỳnh quang để phát hiện cặn dư chất cản quang trên wafer.
Kiểm tra mặt nạ quang khắc (reticles/photomasks): Đảm bảo chất lượng của các mặt nạ dùng trong quy trình quang khắc.
Sản xuất Màn hình Phẳng (Flat Panel Display - FPD):
Kiểm tra các khuyết tật trên tấm nền FPD, đảm bảo chất lượng hình ảnh cuối cùng.
Đánh giá các thành phần hữu cơ trong màn hình OLED.
Công nghiệp Điện tử và Viễn thông:
Kiểm tra các linh kiện điện tử nhỏ, bảng mạch in (PCB) để đảm bảo chất lượng và độ chính xác trong quá trình sản xuất.
Kiểm tra các thành phần vi cơ điện tử (MEMS - Micro Electro Mechanical Systems) được sử dụng trong điện thoại thông minh, con quay hồi chuyển, gia tốc kế.
Đo lường các ống dẫn sóng ăng-ten (antenna waveguides) và các thành phần viễn thông khác với độ chính xác cao.
Công nghiệp Vật liệu và Kim loại:
Kiểm tra cấu trúc vật liệu, phân tích lỗi, đánh giá độ tinh khiết và các đặc tính khác của kim loại, gốm sứ, và vật liệu tổng hợp.
Nghiên cứu và Phát triển (R&D):
Phân tích chi tiết các mẫu mới, phát triển quy trình sản xuất và kiểm tra vật liệu tiên tiến trong phòng thí nghiệm.
Tóm lại, Nikon ECLIPSE L300N/L300ND là những kính hiển vi công nghiệp đẳng cấp, cung cấp hiệu suất quang học vượt trội và các tính năng chuyên biệt, đáp ứng nhu cầu kiểm tra và phân tích khắt khe nhất trong các ngành công nghiệp công nghệ cao.
12V-50W halogen lamp light source built in; Power sources for motorized control built in
Motorized control for nosepiece, Light intensity control, Aperture diaphragm control
Nosepiece: Motorized universal sextuple nosepiece with nosepiece centering function
—
Epi/Dia changeover
Focusing mechanism
Cross travel: 29 mm
Coarse: 12.7 mm per rotation (torque adjustable, refocusing mechanism provided)
Fine: 0.1 mm per rotation (in 1 µm increments)
Episcopic illuminator
12V-50W halogen lamp light source built in
Motorized aperture diaphragm (centerable), Fixed field diaphragm (with focus target)
Pinhole slider (optional), Four ø25 mm filters (NCB11, ND16, ND4), Polarizer and Analyzer can be mounted
Observation methods: Brightfield, Darkfield, Simple polarizing, DIC, Epi-fluorescence
Diascopic illuminator
—
12V-50W halogen lamp light source built in
Aperture diaphragm built in
LWD condenser built in
14 x 12 stage, stroke: 354 x 302 mm (Diascopic observation range: 354 x 268 mm)
Coarse/Fine-movement changeover possible
Fixed-position X-Y fine-movement controls
Antistatic mechanism
1000-10 V, within 0.2 sec
Power consumption
1.2 A/90 W
Dimensions
Approx. 360 (W) x 951 (D) x 581 (H) mm (at tilt angle 10°)
Weight
Approx. 64 kg (When L2-S8A 8 x 8 stage and L2-TTA eyepiece tube are used)